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    晶圓表面形貌檢測(cè)設(shè)備

    簡(jiǎn)要描述:中圖儀器WD4000晶圓表面形貌檢測(cè)設(shè)備自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。通過(guò)非接觸測(cè)量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。

    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間:2025-03-09
    • 訪  問(wèn)  量:1524

    詳細(xì)介紹

    品牌中圖儀器產(chǎn)地國(guó)產(chǎn)
    加工定制

    中圖儀器WD4000晶圓表面形貌檢測(cè)設(shè)備自動(dòng)測(cè)量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。通過(guò)非接觸測(cè)量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測(cè)量測(cè)同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。


    產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

    1、非接觸厚度、三維維納形貌一體測(cè)量

    集成厚度測(cè)量模組和三維形貌、粗糙度測(cè)量模組,使用一臺(tái)機(jī)器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三維形貌的測(cè)量。

    2、高精度厚度測(cè)量技術(shù)

    (1)采用高分辨率光譜共焦對(duì)射技術(shù)對(duì)Wafer進(jìn)行高效掃描。

    (2)搭配多自由度的靜電放電涂層真空吸盤(pán),晶圓規(guī)格最大可支持至12寸。

    (3)采用Mapping跟隨技術(shù),可編程包含多點(diǎn)、線、面的自動(dòng)測(cè)量。

    3、高精度三維形貌測(cè)量技術(shù)

    (1)采用光學(xué)白光干涉技術(shù)、精密Z向掃描模塊和高精度3D重建算法,Z向分辨率高可到0.1nm;

    (2)隔振設(shè)計(jì)降低地面振動(dòng)和空氣聲波振動(dòng)噪聲,獲得高測(cè)量重復(fù)性。

    (3)機(jī)器視覺(jué)技術(shù)檢測(cè)圖像Mark點(diǎn),虛擬夾具擺正樣品,可對(duì)多點(diǎn)形貌進(jìn)行自動(dòng)化連續(xù)測(cè)量。

    4、大行程高速龍門(mén)結(jié)構(gòu)平臺(tái)

    (1)大行程龍門(mén)結(jié)構(gòu)(400x400x75mm),移動(dòng)速度500mm/s。

    (2)高精度花崗巖基座和橫梁,整體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定、可靠。

    (3)關(guān)鍵運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)采用高精度直線導(dǎo)軌導(dǎo)引、AC伺服直驅(qū)電機(jī)驅(qū)動(dòng),搭配分辨率0.1μm的光柵系統(tǒng),保證設(shè)備的高精度、高效率。

    5、操作簡(jiǎn)單、輕松無(wú)憂

    (1)集成XYZ三個(gè)方向位移調(diào)整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺(tái)平移、Z向聚焦等測(cè)量前準(zhǔn)工作。

    (2)具備雙重防撞設(shè)計(jì),避免誤操作導(dǎo)致的物鏡與待測(cè)物因碰撞而發(fā)生的損壞情況。

    (3)具備電動(dòng)物鏡切換功能,讓觀察變得快速和簡(jiǎn)單。

    產(chǎn)品應(yīng)用

    可廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業(yè)。可測(cè)各類(lèi)包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級(jí)別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等,提供依據(jù)SEMI/ISO/ASME/EUR/GBT四大國(guó)內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)共計(jì)300余種2D、3D參數(shù)作為評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)。

    晶圓表面形貌檢測(cè)設(shè)備


    應(yīng)用場(chǎng)景

    1、無(wú)圖晶圓厚度、翹曲度的測(cè)量

    通過(guò)非接觸測(cè)量,將晶圓上下面的三維形貌進(jìn)行重建,強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度、粗糙度、總體厚度變化(TTV),有效保護(hù)膜或圖案的晶片的完整性。

    晶圓表面形貌檢測(cè)設(shè)備

    2、無(wú)圖晶圓粗糙度測(cè)量

    Wafer減薄工序中粗磨和細(xì)磨后的硅片表面3D圖像,用表面粗糙度Sa數(shù)值大小及多次測(cè)量數(shù)值的穩(wěn)定性來(lái)反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車(chē)間強(qiáng)噪聲環(huán)境中測(cè)量的減薄硅片,細(xì)磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次測(cè)量數(shù)據(jù)計(jì)算重復(fù)性為0.046987nm,測(cè)量穩(wěn)定性良好。

    懇請(qǐng)注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請(qǐng)諒解。

    晶圓表面形貌檢測(cè)設(shè)備

    WD4000晶圓表面形貌檢測(cè)設(shè)備采用高精度光譜共焦傳感技術(shù)、光干涉雙向掃描技術(shù),完成非接觸式掃描并建立3D Mapping圖,實(shí)現(xiàn)晶圓厚度、TTV、LTV、Bow、Warp、TIR、SORI、等反應(yīng)表面形貌的參數(shù)。


    部分技術(shù)規(guī)格

    型號(hào)WD4200
    厚度和翹曲度測(cè)量系統(tǒng)
    可測(cè)材料砷化鎵 、氮化鎵 、磷化 鎵、鍺、磷化銦、鈮 酸 鋰 、藍(lán)寶石 、硅 、碳化 硅 、玻璃等
    測(cè)量范圍
    150μm~2000μm
    測(cè)量參數(shù)厚度、TTV(總體厚度變 化)  、LTV 、BOW、WARP  、平面度、線粗糙度
    三維顯微形貌測(cè)量系統(tǒng)
    測(cè)量原理白光干涉
    測(cè)量視場(chǎng)0.96mm×0.96mm
    可測(cè)樣品反射率
    0.05%~ 100%
    測(cè)量參數(shù)顯微形貌 、線/面粗糙度、空間頻率等三大 類(lèi)300余種參數(shù)
    系統(tǒng)規(guī)格
    晶圓尺寸4"  、6"  、8"  、 12"
    晶圓載臺(tái)防靜電鏤空真空吸盤(pán)載臺(tái)
    X/Y/Z工作臺(tái)行程
    400mm/400mm/75mm
    工作臺(tái)負(fù)載≤5kg
    外形尺寸1500× 1500×2000mm
    總重量約 2000kg

    如有疑問(wèn)或需要更多詳細(xì)信息,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢(xún)。


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